In u campu di a fabricazione di semiconduttori, cum'è l'equipaggiu principale chì determina a precisione di u prucessu di fabricazione di chip, a stabilità di l'ambiente internu di a macchina di fotolitografia hè di vitale impurtanza. Da l'eccitazione di a fonte di luce ultravioletta estrema à u funziunamentu di a piattaforma di muvimentu di precisione nanoscala, ùn ci pò esse a minima deviazione in ogni ligame. E basi di granitu, cù una seria di proprietà uniche, dimustranu vantaghji senza paragone per assicurà u funziunamentu stabile di e macchine di fotolitografia è migliurà a precisione di a fotolitografia.
Prestazioni eccezziunali di schermatura elettromagnetica
L'internu di una macchina di fotolitografia hè pienu di un ambiente elettromagneticu cumplessu. L'interferenza elettromagnetica (EMI) generata da cumpunenti cum'è fonti di luce ultravioletta estrema, motori di azionamentu è alimentatori d'alta frequenza, se ùn sò micca cuntrullati efficacemente, influenzerà seriamente e prestazioni di i cumpunenti elettronichi di precisione è di i sistemi ottici in l'apparecchiatura. Per esempiu, l'interferenza pò causà lievi deviazioni in i mudelli di fotolitografia. In i prucessi di fabricazione avanzati, questu hè sufficiente per purtà à cunnessione incorrette di transistor nantu à u chip, riducendu significativamente u rendimentu di u chip.
U granitu hè un materiale non metallicu è ùn conduce micca l'elettricità da per ellu. Ùn ci hè micca fenomenu d'induzione elettromagnetica causatu da u muvimentu di l'elettroni liberi à l'internu cum'è in i materiali metallichi. Sta caratteristica ne face un corpu di schermatura elettromagnetica naturale, chì pò bluccà efficacemente u percorsu di trasmissione di l'interferenza elettromagnetica interna. Quandu u campu magneticu alternatu generatu da a fonte d'interferenza elettromagnetica esterna si propaga à a basa di granitu, postu chì u granitu hè non magneticu è ùn pò esse magnetizatu, u campu magneticu alternatu hè difficiule da penetrà, pruteggendu cusì i cumpunenti principali di a macchina di fotolitografia installata nantu à a basa, cum'è i sensori di precisione è i dispositivi di regulazione di lenti ottiche, da l'influenza di l'interferenza elettromagnetica è assicurendu a precisione di u trasferimentu di u mudellu durante u prucessu di fotolitografia.
Eccellente compatibilità cù u vacuum
Siccomu a luce ultravioletta estrema (EUV) hè facilmente assorbita da tutte e sustanze, cumprese l'aria, e macchine di litografia EUV devenu funziunà in un ambiente di vacuum. À questu puntu, a cumpatibilità di i cumpunenti di l'equipaggiu cù l'ambiente di vacuum diventa particularmente cruciale. In un vacuum, i materiali ponu dissolve, desorbe è liberà gas. U gas liberatu ùn solu assorbe a luce EUV, riducendu l'intensità è l'efficienza di trasmissione di a luce, ma pò ancu contaminà e lenti ottiche. Per esempiu, u vapore acqueo pò ossidà e lenti, è l'idrocarburi ponu deposità strati di carbone nantu à e lenti, affettendu seriamente a qualità di a litografia.
U granitu hà proprietà chimiche stabili è difficilmente libera gas in un ambiente di vacuum. Sicondu i testi prufessiunali, in un ambiente di vacuum simulatu di una macchina di fotolitografia (cum'è l'ambiente di vacuum ultra-pulitu in u quale si trovanu u sistema otticu d'illuminazione è u sistema otticu d'imaghjini in a camera principale, chì richiede H₂O < 10⁻⁵ Pa, CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa), a velocità di degassamentu di a basa di granitu hè estremamente bassa, assai più bassa di quella di altri materiali cum'è i metalli. Questu permette à l'internu di a macchina di fotolitografia di mantene un altu gradu di vacuum è pulizia per un bellu pezzu, assicurendu l'alta trasmittanza di a luce EUV durante a trasmissione è un ambiente d'usu ultra-pulitu per e lenti ottiche, allargendu a vita di serviziu di u sistema otticu è migliurendu e prestazioni generali di a macchina di fotolitografia.
Forte resistenza à e vibrazioni è stabilità termica
Durante u prucessu di fotolitografia, a precisione à u livellu nanometricu richiede chì a macchina di fotolitografia ùn deve avè a minima vibrazione o deformazione termica. E vibrazioni ambientali generate da u funziunamentu di altre apparecchiature è u muvimentu di u persunale in l'officina, è ancu u calore pruduttu da a macchina di fotolitografia stessa durante u funziunamentu, ponu interferisce cù a precisione di a fotolitografia. U granitu hà una alta densità è una struttura dura, è hà una eccellente resistenza à e vibrazioni. A so struttura interna di cristalli minerali hè compatta, chì pò attenuà efficacemente l'energia di vibrazione è supprime rapidamente a propagazione di e vibrazioni. I dati sperimentali mostranu chì sottu a stessa fonte di vibrazione, a basa di granitu pò riduce l'ampiezza di vibrazione di più di u 90% in 0,5 secondi. In paragone cù a basa metallica, pò restaurà a stabilità di l'apparecchiatura più rapidamente, assicurendu a pusizione relativa precisa trà a lente di fotolitografia è u wafer, è evitendu a sfocatura o u disallineamentu di u mudellu causatu da e vibrazioni.
Intantu, u coefficientu di dilatazione termica di u granitu hè estremamente bassu, circa (4-8) ×10⁻⁶/℃, chì hè assai più bassu chè quellu di i materiali metallichi. Durante u funziunamentu di a macchina di fotolitografia, ancu s'è a temperatura interna fluttua per via di fattori cum'è a generazione di calore da a fonte luminosa è l'attritu da i cumpunenti meccanichi, a basa di granitu pò mantene a stabilità dimensionale è ùn subisce micca deformazioni significative per via di l'espansione è a cuntrazione termica. Fornisce un supportu stabile è affidabile per u sistema otticu è a piattaforma di muvimentu di precisione, mantenendu a cunsistenza di a precisione di a fotolitografia.
Data di publicazione: 20 di maghju di u 2025